產品列表PRODUCTS LIST

首頁 > 技術與支持 > CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相澱積)
CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相澱積)
點擊次數:2763 發布時間:2009-10-29

CVD試驗

CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相澱積,指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在襯底表麵發生化學反應生成薄膜的過程。在超大規模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法製備。經過CVD處理後,表麵處理膜密著性約提高30%,防止高強力鋼的彎曲,拉伸等成形時產生的刮痕。

 

CVD特點:澱積溫度低,薄膜成份易控,膜厚與澱積時間成正比,均勻性,重複性好,台階覆蓋性優良。

CVDChina Video Disk

 

曾經在VCD機生產商競爭的年代,內部定製的一種碟片標準,具有多層菜單,用的C-CUBE公司的芯片.

 

聯係人
在線客服
用心服務 成就你我