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看完這個,您就知道自己到底了不了解等離子增強化學氣相沉積爐
點擊次數:73 發布時間:2020-10-30
  等離子增強化學氣相沉積爐備配有Plasma實現等離子增強,滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定向日葵视频app入口直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將向日葵视频app黄的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環境下,得到快速的降溫速率。並可選配氣氛微調裝置,可準確的控製反應腔體內部的氣體壓力,帶刻度的調節閥對於做低壓CVD非常簡單實用,工藝重複性好,對於石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用於要求快速升降溫的CVD實驗。

  主要功能和特點:
  1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相;
  2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量;
  3、可通過調整射頻電源頻率來控製沉積速率;
  4、能廣泛用於:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
 
  優點:
  等離子增強化學氣相沉積爐的主要優點是沉積溫度低,對基體的結構和物理性質影響小;膜的厚度及成分均勻性好;膜組織致密、針孔少;膜層的附著力強;應用範圍廣,可製備各種金屬膜、無機膜和有機膜。
 
  等離子增強化學氣相沉積爐的製取方法:
  在沉積室利用輝光放電使其電離後在襯底上進行化學反應沉積的半導體薄膜材料製備和其他材料薄膜的製備方法。等離子體增強化學氣相沉積是:在化學氣相沉積中,激發氣體,使其產生低溫等離子體,增強反應物質的化學活性,從而進行外延的一種方法。該方法可在較低溫度下形成固體膜。例如在一個反應室內將基體材料置於陰極上,通入反應氣體至較低氣壓(1~600Pa),基體保持一定溫度,以某種方式產生輝光放電,基體表麵附近氣體電離,反應氣體得到活化,同時基體表麵產生陰極濺射,從而提高了表麵活性。在表麵上不僅存在著通常的熱化學反應,還存在著複雜的等離子體化學反應。沉積膜就是在這兩種化學反應的共同作用下形成的。激發輝光放電的方法主要有:射頻激發,直流高壓激發,脈衝激發和微波激發。
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